稀土氧化物阻變存儲器薄膜兼高k柵 介質材料的製備及變溫I-V特性研究

發布者👷🔏:朱佳媛發布時間👋🏽:2018-04-19瀏覽次數🙅🏽‍♂️:370

微電子技術是高新科技的基礎,半導體產業是社會信息化和社會發展的支柱。其中,半導體存儲器是可以讀寫🚊、存儲數字信息的一種非常重要的半導體器件😗,它的性能很大程度上決定著微電子技術的整體水平🐚。根據斷電後信息是否可以保存,半導體存儲器可以分為易失性和非易失性兩大類。近年來,隨著各種電子智能產品的普及推廣和不斷發展,迫切需要研發更高密度、更大容量的新型非易失性存儲器介質材料及器件結構。

阻變存儲器是一種新型非易失性存儲器,它根據不同電壓下的不同電阻值實現對數據的存儲。在外加電壓的激勵下,阻變材料在高阻和低阻兩種狀態之間轉換,這兩種阻態被定義為計算機中的“1”和“0”。

研究表明😪,氧化物電介質材料也可以是阻變材料。它們具有很多優點,如🧕🏿:與CMOS工藝兼容😫,既可以作為MOS結構的柵介質材料,也可以作為阻變存儲器介質材料;與各種半導體襯底如矽、鍺和石英等的優良附著性能;製備容易簡單👷🏿‍♂️、優良的可重復性🧑🏽‍🚒、非常好的熱穩定性和化學穩定性等⛽️🧑‍💼。使它們成為很有吸引力的高k柵介質候選材料🍿,也是很優秀的RRAM阻變存儲器介質材料。

本項目研究稀土氧化物的電學性質,為其在阻變存儲器和高k柵介質上的應用提供理論和實驗數據🚹。

  

  

數理學院 朱燕艷


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